Browsing by Author Yu, X.F.

Showing results 1 to 6 of 6
Issue DateTitleAuthor(s)
2005A new gate dielectric HfLaO with metal gate work function tuning capability and superior NMOSFETs performanceWang, X.P.; Li, M.F. ; Chin, A. ; Zhu, C. ; Chi, R.; Yu, X.F.; Shen, C.; Du, A.Y.; Chan, D.S.H. ; Kwong, D.-L.
2003High Performance ALD HfO 2-Al 2O 3 Laminate MIM Capacitors for RF and Mixed Signal IC ApplicationsHu, H.; Ding, S.-J. ; Lim, H.F. ; Zhu, C. ; Li, M.F. ; Kim, S.J. ; Yu, X.F.; Chen, J.H. ; Yong, Y.F.; Cho, B.J. ; Chan, D.S.H. ; Rustagi, S.C.; Yu, M.B.; Tung, C.H.; Du, A.; My, D.; Foo, P.D.; Chin, A.; Kwong, D.-L.
Dec-2003High-Performance MIM Capacitor Using ALD High-κ HfO 2-Al2O3 Laminate DielectricsDing, S.-J. ; Hu, H.; Lim, H.F. ; Kim, S.J. ; Yu, X.F.; Zhu, C. ; Li, M.F. ; Cho, B.J. ; Chan, D.S.H. ; Rustagi, S.C.; Yu, M.B.; Chin, A.; Kwong, D.-L.
2005New insights in hf based high-k gate dielectrics in mosfetsLi, M.-F. ; Zhu, C. ; Shen, C.; Yu, X.F.; Wang, X.P.; Feng, Y.P. ; Du, A.Y.; Yeo, Y.C. ; Samudra, G. ; Chin, A. ; Kwong, D.L. 
Jun-2006Physical and electrical characteristics of high-κ gate dielectric Hf(1-x)LaxOyWang, X.P.; Li, M.F. ; Chin, A. ; Zhu, C.X. ; Shao, J.; Lu, W.; Shen, X.C.; Yu, X.F.; Chi, R.; Shen, C.; Huan, A.C.H.; Pan, J.S.; Du, A.Y.; Lo, P.; Chan, D.S.H. ; Kwong, D.-L. 
Jan-2006Tuning effective metal gate work function by a novel gate dielectric HfLaO for nMOSFETsWang, X.P.; Li, M.-F. ; Ren, C.; Yu, X.F.; Shen, C.; Ma, H.H. ; Chin, A. ; Zhu, C.X. ; Ning, J.; Yu, M.B.; Kwong, D.-L.